这套MLED量产打印工艺设备创新性采用多工序集成设计，实现了直显大屏“无缝拼接”的突破性显示效果，制程过程环境友好，无需高真空，ESD风险大大降低；无激光热影响效应，可显著提升产品良率和可靠性。

在核心技术层面，设备集成五大优势：

在MLED相关设备领域，国内部分关键技术设备曾依赖进口，这在一定程度上限制了显示产业的自主发展和竞争力提升。西湖未来智造依托自主研发的微米、亚微米级超高精度电子增材技术，成功开发了玻璃基MLED关键打印工艺解决方案，该设备的交付与新工艺的导入有望加速玻璃基MLED技术在高端大屏显示场景的规模化应用进程。

公司自2020年与显示行业头部客户合作以来，围绕行业新需求新工艺等方向，持续推动创新，突破技术边界，目前已有多套新型工艺与装备完成了行业头部客户的导入。与此同时，相关设备也在2024年获得了国内首台（套）装备的荣誉。此次设备的成功交付，为公司后续整线技术迭代验证和市场拓展提供了实践经验，是公司发展进程中的一个重要节点。后续，公司也将携手行业客户，持续进行前沿性研发，共同赋能显示产业技术发展。